APLM

Le projet APLM vise à développer un procédé innovant combinant les dépôts sous vide de couches ultra‑minces (Physical Vapor Deposition (PVD) et Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)) et l’ablation laser nanoseconde, picoseconde et femtoseconde, afin de créer des cavités contrôlées avec une précision nanométrique. L’objectif est de démontrer la faisabilité de cette technologie pour produire des multicouches complexes et des motifs haute résolution. Des prototypes de cadrans multicolores et de moules destinés aux procédés de nano‑impression, d’embossage et d’injection plastique seront réalisés pour valoriser la technologie et soutenir son adoption industrielle.

Résultats attendus

Outre la dimension fortement innovante du projet dont les retombées économiques concernant tant les domaines de l’horlogerie que ceux liés à l’optique, APLM va permettre aux acteurs du consortium, académiques et entreprises, de renforcer leurs connaissances réciproques et d’améliorer leurs synergies. A terme, les entreprises du territoire seront en mesure de développer de nouveaux produits à haute valeur ajouté grâce à cette technologie.